Aixtron setzt auf Galliumoxid und treibt Halbleiter-Innovation mit OSU-Partnerschaft voran

Aixtron setzt auf Galliumoxid und treibt Halbleiter-Innovation mit OSU-Partnerschaft voran

Aixtron stärkt seine Position in der Halbleitertechnologie der nächsten Generation durch Partnerschaft mit der Ohio State University (OSU)

Das Unternehmen festigt seine Rolle in der Halbleiterzukunft: Durch eine neue Kooperation mit der Ohio State University (OSU) treibt Aixtron die Forschung an Galliumoxid voran – ein Material, das die Leistungselektronik revolutionieren könnte. Investoren haben reagiert und die Aktie des Unternehmens seit Januar um fast 40 % steigen lassen.

Im Nanotech West Lab der OSU, das vom Institut für Material- und Fertigungsforschung betrieben wird, ist nun Aixtrons Close Coupled Showerhead® (CCS)-System im Einsatz. Die spezialisierte Anlage ermöglicht das epitaktische Wachstum von Galliumoxid und Aluminium-Galliumoxid auf 100-Millimeter-Substraten. Dank präziser Steuerung entstehen gleichmäßige, hochwertige Dünnschichten – eine entscheidende Voraussetzung für moderne Halbleiteranwendungen.

Mit seinem Fokus auf Ultra-Breitbandgap-Halbleiter positioniert sich Aixtron an der Spitze der Materialinnovation. Galliumoxid (Ga₂O₃) überzeugt durch seine Leistungsfähigkeit unter extremen Spannungen und Temperaturen und eignet sich damit ideal für die Leistungselektronik der Zukunft. Durch frühzeitige Investitionen in diese Technologie sichert sich das Unternehmen einen Wettbewerbsvorteil gegenüber Konkurrenten wie ASM International, Veeco Instruments und Applied Materials.

Die Zusammenarbeit mit der OSU unterstreicht Aixtrons Führungsrolle bei MOCVD-Systemen. In den letzten fünf Jahren hat das Unternehmen sein Portfolio an Ausrüstungen für Breitbandgap-Halbleiter ausgebaut und wichtige Kundenverträge abgeschlossen. Die Aktie notiert derzeit bei 18,79 Euro – deutlich über dem 200-Tage-Durchschnitt – und spiegelt das wachsende Vertrauen in die technologische Ausrichtung wider.

Die Partnerschaft mit der OSU festigt Aixtrons Stellung in der Forschung und Entwicklung von Galliumoxid. Die starke Aktienperformance und die strategische Ausrichtung auf Materialien der nächsten Generation legen eine solide Basis für weiteres Wachstum im Bereich Leistungshalbleiter. Der Schritt passt zu dem branchenweiten Trend hin zu effizienteren, leistungsfähigeren elektronischen Komponenten.